1. JFET的结构和符号
N沟道JFET P沟道JFET
2. 工作原理(以N沟道JFET为例)
N沟道JFET工作时,必须在栅极和源极之间加一个负电压——VGS< 0,在D-S间加一个正电压—— VDS>0.
栅极—沟道间的PN结反偏,栅极电流iG»0,栅极输入电阻很高(高达107W以上)。
N沟道中的多子(电子)由S向D运动,形成漏极电流iD。iD的大小取决于VDS的大小和沟道电阻。改变VGS可改变沟道电阻,从而改变iD 。
主要讨论VGS对iD的控制作用以及VDS对iD的影响。
①栅源电压VGS对iD的控制作用
当VGS<0时,PN结反偏,耗尽层变宽,沟道变窄,沟道电阻变大,ID减小;VGS更负时,沟道更窄,ID更小;直至沟道被耗尽层全部覆盖,沟道被夹断, ID≈0。这时所对应的栅源电压VGS称为夹断电压VP。
②漏源电压VDS对iD的影响
在栅源间加电压VGS < 0 ,漏源间加正电压VDS > 0。则因漏端耗尽层所受的反偏电压为VGD=VGS-VDS,比源端耗尽层所受的反偏电压VGS大,(如:VGS=-2V, VDS =3V, VP=-9V,则漏端耗尽层受反偏电压为VGD=-5V,源端耗尽层受反偏电压为-2V),使靠近漏端的耗尽层比源端宽,沟道比源端窄,故VDS对沟道的影响是不均匀的,使沟道呈楔形。
当VDS增加到使VGD=VGS-VDS =VP 时,耗尽层在漏端靠拢,称为预夹断。
当VDS继续增加时,预夹断点下移,夹断区向源极方向延伸。由于夹断处电阻很大,使VDS主要降落在该区,产生强电场力把未夹断区的载流子都拉至漏极,形成漏极电流ID。预夹断后ID基本不随VDS增大而变化。
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